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硅化处理——低氧紫外线固化

在低氧条件下运行的紫外线系统可在受控气氛中实现紫外线固化。 通过向反应腔内注入氮气,可降低其中的氧气浓度。较低的氧气浓度能减少紫外线固化过程中的氧抑制现象,从而促进油墨、清漆和涂料的固化。根据具体应用情况,还能减少异味产生或发黄等不良影响。

这些紫外线装置的主要特点如下:

  • 紫外线灯罩安装在封闭的惰性化腔室上方。
  • 照射向基材的紫外线会穿过位于惰性化腔顶部、紫外线灯罩下方的石英屏。
  • 通过位于基材下方的水冷式底护罩进行热管理。
  • 氮气进气口和出气口控制惰性环境。氮气消耗量极低,因为只需补充通过进气口和出气口损失的氮气即可。
  • 系统会持续监测残留氧气水平,以确保最佳运行条件。

惰性紫外线装置用于交联有机硅脱模涂料

  • BLK 版
  • 灯输出最大值。200 W/cm
  • 相对于卷筒纸速度的无级灯控制(ELC)
  • 剩余氧含量低于 40 ppm
  • 快速更换石英筛网
  • 可快速打开以进行维护或卷筒纸进料
  • 待机模式,减少氮气消耗

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